ГЕФЕСТ-HIPIMS
Установка магнетронного напыления импульсами высокой мощности
Установка вакуумного магнетронного напыления PVD предназначена для нанесения микро- и нанокомпозитных покрытий как в стандартных режимах (DC/AC), так и в режиме импульсов высокой мощности, обеспечивая:
Данный модуль активно используется для внедрения новых разработанных составов 2D- и 3D-нанокомпозитных покрытий. Размеры вакуумной камеры подходят для обработки средних партий изделий. |
Технология магнетронного распыления импульсами высокой мощности HiPIMS улучшает качество будущего покрытия еще на этапе предварительной обработки. Благодаря воздействию высокоионизированной плазмы, с поверхности обрабатываемого изделия полностью удаляются загрязнения (оксиды, карбиды и т.д.), что препятствует развитию дефектов в формирующемся покрытии, обеспечивая ему высокую плотность и хорошую адгезию. В зависимости от состава материала мишеней данная установка позволяет сформировать на поверхности изделий многослойные многокомпонентные покрытия толщиной от 50 нм до 70 мкм. Для использования мишеней доступен широкий выбор материалов. Планетарная конструкция механизма карусели реализует вращение обрабатываемых изделий в трех режимах (вращение по оси камеры, вращение образца вокруг своей оси, планетарное вращение). Трехканальная подача газа в камеру обеспечивает возможность синтеза углеродосодержащих покрытий, а также нитридов, оксидов, карбонитридов и других соединений на поверхностях изделий. |
Технические характеристики |
|
Габаритная длина изделий |
до 700 мм |
Число позиций планетарного механизма |
16/24 |
Количество магнетронов |
4 шт. |
Система питания: |
|
|
до 24 кВт/1350 В |
|
дуальный режим 12 кВт/DC(AC) HIPIMS |